真空气氛保护热处理1700度智能实验室高温气氛炉

更新:2025-11-03 09:00 IP:123.149.49.36 浏览:1次

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真空气氛保护热处理1700度智能实验室高温气氛炉随着材料科学的飞速发展,高温热处理技术正面临前所未有的精度挑战。1700℃智能实验室高温气氛炉的出现,为超高温材料研究提供了革命性的解决方案。这款集成了真空气氛保护系统的先进设备,正在重新定义实验室级高温处理的行业标准。

【智能温控系统】
设备搭载的多段式PID智能控温模块,能实现±1℃的控温。通过16组K型热电偶组成的温度场监测网络,系统可实时构建三维温度场模型,自动补偿炉膛各区域的温差。实验人员通过7英寸触摸屏即可完成复杂温控曲线的编程,系统支持多达99段的阶梯升温/恒温/降温程序设定。

【气氛精密调控】
创新的双级气氛控制系统包含机械泵与分子泵组成的抽气单元,极限真空度可达6.67×10-4Pa。配置的4路质量流量控制器(MFC)支持Ar、N₂、H₂等保护气体的配比,流量控制精度达±0.1%。特别设计的迷宫式炉膛结构配合气体循环装置,确保工作区气氛均匀性偏差不超过2%。

【安全防护体系】
三级联锁防护系统包含超温自动断电、水冷应急保护和气压安全阀。炉体采用多层复合保温结构,外层温度始终控制在60℃以下。通过物联网模块,设备状态可实时传输至实验室中央监控系统,异常情况触发声光报警的同时,会自动向预设手机号发送预警信息。

真空气氛保护热处理 1700 度智能实验室高温气氛炉是一种高性能的实验设备,主要用于满足科研和工业生产中对高温、真空及气氛保护条件下的材料处理需求。以下是相关介绍:

主要技术参数

  • 温度范围:高温度可达 1700℃,控温精度为 ±1℃,恒温精度 ±1℃,测温元件采用 B 型热电偶,测温范围 0-1820℃。

  • 加热元件:通常采用高纯金属钼丝作为加热元件,均匀分布于炉膛两侧,升温速率可自由调节,快升温速率≤20℃/min。

  • 真空系统:一般配备双级直接旋片真空泵,极限真空度可达 - 0.1MPa。

  • 气氛控制系统:可通入多种气氛,如氢气、氩气等,配备气体流量计和进口不锈钢阀门,可控制气体流量和压力。

  • 炉膛材料:炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,保温材料采用四层保温结构,分别为氧化铝纤维棉、氧化铝纤维板、氧化铝多晶纤维板等。

  • 控制系统:采用触摸屏加 PLC 智能控制,可编程序曲线,全自动升温 / 降温,运行中可以修改控温参数及程序,还具备超温、断偶、超压、过流等双回路保护功能。

  • 设备特点

  • 高精度控温:采用智能 PID 控制算法,配合高精度的温度传感器和先进的温控仪表,能够实现的温度控制,确保实验过程中温度的稳定性和准确性。

  • 真空与气氛保护:具备良好的真空密封性能和气氛控制能力,可以在真空或特定气氛环境下对样品进行热处理,有效防止样品氧化、污染,满足不同材料的处理需求。

  • 高温稳定性:炉膛采用优质的耐高温材料和合理的结构设计,能够在 1700℃的高温下长期稳定运行,同时保证温场均匀性,为实验提供可靠的高温环境。

  • 智能化操作:配备触摸屏等智能操作界面,操作简单方便,可实时显示温度、真空度、气氛流量等参数,还可进行程序编程,实现自动化的实验过程控制。

  • 安全性能高:设有多重安全保护装置,如超温报警、断偶保护、真空压力保护等,能够有效防止设备故障和事故的发生,保障实验人员和设备的安全。

  • 适用范围

  • 材料科学研究:用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工等领域的材料烧结、融化、分析等研究。

  • 新材料开发:适用于特种材料、耐火材料、新材料开发等领域的样品制备和性能研究。

  • 半导体芯片研发:可用于半导体芯片制造过程中的高温处理工艺,如退火、扩散等。


  • 在航空发动机单晶叶片、核反应堆包壳材料等领域,该设备已展现出独特优势。其模块化设计允许快速更换氧化铝/石墨/钨钼等不同材质的加热元件,配合可选配的在线检测接口,为新材料研发提供了前所未有的实验灵活性。未来,随着人工智能算法的深度集成,这类智能高温炉将实现更的工艺参数自优化功能。
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